[发明专利]锗透镜基底上镀制8-12μmDLC加减反射增透膜的制备方法在审
| 申请号： | 202310365839.4 | 申请日： | 2023-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN116356316A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 梁献波;刘梦佳;尹士平 | 申请（专利权）人： | 安徽光智科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C16/505;C23C16/02;C23C16/26;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/54;C23C14/06;C23C14/30;C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人： | 张向琨 |
| 地址： | 239004 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种锗透镜基底上镀制8‑12μmDLC加减反射增透膜的制备方法包括步骤：S1，将作为镜片的锗透镜基底的陪镀片和产品的表面进行清洁处理，陪镀片的厚度为0.9‑1.5mm；S2，在第一面上镀制DLC膜层；S3，在第二面镀制减反射增透膜。S4，镀制完成后，待真空室冷却至80℃以下取出镜片。通过第一面镀制的作为外膜层的DLC膜层和第二面镀制的作为内膜层的减反射增透膜，基于陪镀片的8‑12μm红外波段的测试，8‑12μm红外波段的透过率能达到91％以上。内膜层和外膜层的配合既能满足恶劣环境工作又能满足红外透射率要求。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 基底 上镀制 12 mdlc 加减 反射 增透膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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