[发明专利]一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统在审
| 申请号： | 202310233665.6 | 申请日： | 2023-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN116429257A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 陈雅馨;李仲禹;董诗浩 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28;G01J3/02;G01B11/06 |
| 代理公司： | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人： | 范三霞 |
| 地址： | 201700 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光谱测量系统及光谱式厚度测量系统，光谱测量系统包括光源模块、色散元件、探测器、位移台控制器和位移台；光源模块提供入射光，入射光照射样品上的第一区域产生第一干涉光，第一干涉光经色散元件入射至探测器生成第一相干光谱；位移台控制器控制位移台移动样品以使入射光照射样品上的第二区域产生第二干涉光，第二区域和第一区域部分相交，第二干涉光经色散元件入射至探测器生成第二相干光谱；基于第二相干光谱补偿第一相干光谱。光谱式厚度测量系统包括光谱测量系统，并基于光谱数据库和补偿后的第一相干光谱得到第一区域的厚度。本发明通过位移台移动样品的位置以补偿因探测器的空间分辨率限制而遗漏的样品上的光谱信息。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 测量 系统 厚度 | ||
【主权项】：
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