[发明专利]光学临近修正方法

摘要

本发明提供了一种光学临近修正方法，通过从所有主图形中筛选出所有金属层图形的末端线条与该金属层图形覆盖的孔结构图形之间的距离大于预设值的主图形，形成第一图形组；然后，从所有主图形中筛选出所有相邻两个主图形对应的两个光学临近修正后的图形之间的线端间距位于第一预设范围内的主图形组，形成第二图形组；接着，从第二图形组中筛选出与第一图形组有重叠的主图形组，形成第三图形组；最后，调整第三图形组中的每个主图形的末端线条迭代时向外生长的长度，使得曝光后的每个主图形中的金属层图形完全覆盖孔结构图形。本发明提供的方法能够同时兼顾光刻工艺窗口和OPC收敛度，并且可以避免电路连接问题，提高产品良率。