[发明专利]光学临近修正方法

权利要求书

1.一种光学临近修正方法，其特征在于，包括以下步骤：

确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图包括多个主图形，且每个所述主图形包括金属层图形和被所述金属层图形覆盖的孔结构图形；

从所有所述主图形中筛选出所有所述金属层图形的末端线条与该金属层图形覆盖的孔结构图形之间的距离大于预设值的主图形，形成第一图形组；

从所有所述主图形中筛选出所有相邻两个所述主图形对应的两个光学临近修正后的图形之间的线端间距位于第一预设范围内的主图形组，形成第二图形组；

从所述第二图形组中筛选出与所述第一图形组有重叠的主图形组，形成第三图形组；

调整所述第三图形组中的每个主图形的末端线条迭代时向外生长的长度，使得曝光后的每个主图形中的金属层图形完全覆盖孔结构图形。

2.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述从所有所述主图形中筛选出所有相邻两个所述主图形对应的两个光学临近修正后的图形之间的线端间距位于第一预设范围内的主图形组的步骤包括：

对所有所述主图形进行光学临近修正，获得光学临近修正后的图形；

从所述光学临近修正后的图形中筛选出所有相邻两个所述光学临近修正后的图形之间的线端间距位于所述第一预设范围内的光学临近修正后的图形组；

根据筛选出的所述光学临近修正后的图形组确定出对应的主图形组。

3.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述从所有所述主图形中筛选出所有相邻两个所述主图形对应的两个光学临近修正后的图形之间的线端间距位于第一预设范围内的主图形组的步骤包括：

确定所述主图形对应的符合相邻主图形的版图设计规则的第二版图规则值，且根据所述第二版图规则值获取第二预设范围，并筛选出所有相邻两个所述主图形之间的线端间距位于所述第二预设范围内的主图形组，以保证所述主图形组中的所有相邻两个所述主图形对应的两个光学临近修正后的图形之间的线端间距位于第一预设范围内。

4.如权利要求3所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述第二预设范围为所述第二版图规则值~所述第二版图规则值+N，且N的范围为1/4的所述第二版图规则值~1/3的所述第二版图规则值。

5.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述第一预设范围为掩膜规则值~掩膜规则值+m，所述m的范围为1nm~2nm，所述掩膜规则值是根据所述主图形对应的版图掩膜设计规则确定的。

6.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述预设值的范围为1.5倍的第一版图规则值~2倍的第一版图规则值，所述第一版图规则值是根据所述主图形中的所述金属层图形和所述孔结构图形对应的版图设计规则确定的。

7.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述调整所述第三图形组中的每个主图形的末端线条迭代时向外生长的长度的步骤包括：

利用基于模型的光学临近修正软件，对所述第三图形组中的每个所述主图形的线边进行光学临近修正，并在光学临近修正的过程中通过调整所述主图形的末端线条迭代时向外生长的长度，使得曝光后的每个主图形中的金属层图形完全覆盖孔结构图形。

8.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，在从所述第二图形组中筛选出与所述第一图形组有重叠的主图形组的步骤中，确认出重叠的主图形；在调整所述第三图形组中的每个主图形的末端线条迭代时向外生长的长度的步骤中，限制所述重叠的主图形的末端线条迭代时向外生长的长度，使得曝光后的每个主图形中的金属层图形均完全覆盖孔结构图形。

9.如权利要求8所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述重叠的主图形的末端线条迭代时向外生长的长度为5nm~10nm。

10.如权利要求1所述的光学临近修正方法，其特征在于，所述孔结构图形包括接触孔图形和/或通孔图形。