[发明专利]使用灰调光刻和倾斜蚀刻的深度调节倾斜光栅在审
| 申请号： | 202310137557.9 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN116184568A | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢多维克·戈代 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;G02B6/136;G02B5/18;G02B27/01 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括：使用灰阶抗蚀剂和光刻在光栅层中形成楔形结构。多个通道形成于所述光栅层中，以在所述光栅层中界定倾斜光栅结构。所述楔形结构和所述倾斜光栅结构是通过使用选择性蚀刻工艺形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 调光 倾斜 蚀刻 深度 调节 光栅 | ||
【主权项】：
暂无信息
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