[发明专利]基于调制光场的深度成像系统、方法、设备及介质在审
| 申请号： | 202310043248.5 | 申请日： | 2019-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN116520348A | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 苏公喆;杨心杰;朱力;吕方璐;汪博 | 申请（专利权）人： | 深圳市光鉴科技有限公司 |
| 主分类号： | G01S17/89 | 分类号： | G01S17/89;G01S17/08;G01S7/481 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518049 广东省深圳市福田区梅林街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种基于调制光场的深度成像系统，其特征在于，包括如下模块：光投射模块，用于向目标物体投射离散光束，并通过对调制切换调制光场模式和均匀光场模式；光源控制模块，用于进行光线发射及控制切换光场模式；TOF传感模块，用于接收被测目标物体反射的回来的测量光束；多径干扰消除模块，用于获取所述调制光场模式和所述均匀光场下的图像数据，从中估计多径干扰分量，并去除多径干扰造成的测量误差，输出高精度的深度图像。本发明能够通过向目标物体投射离散光束时采集的第一图像数据中的背景区数据确定多径干扰分量，对所述光斑区数据处理以去除多径干扰分量，从而能够消除了多径干扰造成的测量误差，实现高精度的深度图像的输出。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 调制 深度 成像 系统 方法 设备 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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