[发明专利]一种用于CVD设备的石墨加热器的控制方法在审
申请号: | 202310029108.2 | 申请日: | 2023-01-09 |
公开(公告)号: | CN116121734A | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 蒲勇;向阳;张勇;贺常乐;施建新 | 申请(专利权)人: | 芯三代半导体科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/52 |
代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 唐学青 |
地址: | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开一种用于CVD设备的石墨加热器的控制方法。该控制方法包括如下步骤:PLC控制模块的第二运算单元基于接收的第一运算单元传输的第一限制参数并结合上位机下发的第二限制参数及温控仪的温度参数进行运算以得到控制信号,并传输至直流电源,直流电源接收并响应所述控制信号输出控制信号匹配的电压或电流至加热器。该方法针对CVD设备的反应腔中的托盘加热场合,可以提高温度控制精度,得到平滑可控的升降温曲线,提高片内温度均匀性,提高产品质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 cvd 设备 石墨 加热器 控制 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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