[发明专利]一种用于CVD设备的石墨加热器的控制方法在审
| 申请号： | 202310029108.2 | 申请日： | 2023-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN116121734A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 蒲勇;向阳;张勇;贺常乐;施建新 | 申请（专利权）人： | 芯三代半导体科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46;C23C16/52 |
| 代理公司： | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人： | 唐学青 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 设备 石墨 加热器 控制 方法 | ||
1.一种用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述控制方法包括如下步骤：
PLC控制模块的第二运算单元基于接收的第一运算单元传输的第一限制参数并结合上位机下发的第二限制参数及温控仪的温度参数进行运算以得到控制信号，并传输至直流电源，
直流电源接收并响应所述控制信号输出控制信号匹配的电压或电流至加热器。
2.如权利要求1所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
PLC控制模块的第一运算单元基于输入的直流电源的控制信号最大值，直流电源额定电压值及加热器的电阻值进行运算以得到第一限制参数，并传输至第二运算单元。
3.如权利要求2所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述第一限制参数为电压或电流的限定百分比。
4.如权利要求2所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述温控仪基于反馈的温度段给出匹配对应的升温电压的限制系数rctl，所述限制系数值介于0-100％。
5.如权利要求2所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述第二限制参数为最大输出电压的限制系数rmax。
6.如权利要求2所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
基于手动方式输入加热器的电阻值。
7.如权利要求1所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述第二运算单元将第一限制参数、第二限制参数及温控仪的温度参数基于连乘的方式运算并输出控制信号。
8.如权利要求1所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述控制信号为升温电压限制值。
9.如权利要求8所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述控制信号采用百分制，其范围介于0-100％。
10.如权利要求1所述的用于CVD设备的石墨加热器的控制方法，其特征在于，
所述温控仪基于反馈的温度信息并依据预设的模型输出电压信号。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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