[实用新型]立式PVD倾斜沉积硅片装载装置有效
| 申请号： | 202223603295.0 | 申请日： | 2022-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN219010447U | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 王杨阳;彭为报;葛怀庆;章新良;孙嵩泉 | 申请（专利权）人： | 普乐新能源（蚌埠）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/04;C23C14/35 |
| 代理公司： | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人： | 王琪;和聚龙 |
| 地址： | 233030 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型给出了一种立式PVD倾斜沉积硅片装载装置；包括基片架和至少一组掩膜托盘；每组掩膜托盘包括两个掩膜托盘，每个掩膜托盘设有若干覆膜区域，处于覆膜区域内的掩膜托盘反面侧壁开有契合基片轮廓的装配槽，处于覆膜区域内的掩膜托盘还开有与基片的镀膜区域吻合的镀膜通孔，装配槽下侧侧壁延伸有限位凸台；基片架上设有工位，处于工位内的基片架两侧分别固定连接有斜撑板，两个斜撑板的正面分别朝向基片架外侧，斜撑板的反面侧壁设有形成有容纳掩膜托盘的卡槽，斜撑板上开有遮罩孔，遮罩孔完全覆盖掩膜托盘的所有镀膜通孔。利用本立式PVD倾斜沉积硅片装载装置可以实现靶材同时向多片基片进行镀膜作业，并且同一区域内可以通过两片基片镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 pvd 倾斜 沉积 硅片 装载 装置 | ||
【主权项】：
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