[实用新型]立式PVD倾斜沉积硅片装载装置有效

专利信息
申请号: 202223603295.0 申请日: 2022-12-31
公开(公告)号: CN219010447U 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 王杨阳;彭为报;葛怀庆;章新良;孙嵩泉 申请(专利权)人: 普乐新能源(蚌埠)有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/04;C23C14/35
代理公司: 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 代理人: 王琪;和聚龙
地址: 233030 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 立式 pvd 倾斜 沉积 硅片 装载 装置
【权利要求书】:

1.一种立式PVD倾斜沉积硅片装载装置,其特征为:

包括基片架和至少一组掩膜托盘;

每组掩膜托盘包括两个掩膜托盘,每个掩膜托盘设有若干覆膜区域,处于覆膜区域内的掩膜托盘反面侧壁开有契合基片轮廓的装配槽,处于覆膜区域内的掩膜托盘还开有与基片的镀膜区域吻合的镀膜通孔,所述镀膜通孔一侧延伸至掩膜托盘的正面侧壁,所述镀膜通孔另一侧延伸至与装配槽相通,装配槽下侧侧壁延伸有限位凸台,装配槽正面槽壁与限位凸台正面侧壁之间构成放置基板的空间;

基片架上设有至少一个工位,处于工位内的基片架两侧分别固定连接有斜撑板,两个斜撑板的正面分别朝向基片架外侧,所述斜撑板的反面侧壁设有形成有容纳掩膜托盘的卡槽,所述斜撑板上开有贯穿其正、反面的遮罩孔,所述遮罩孔完全覆盖掩膜托盘的所有镀膜通孔。

2.根据权利要求1所述的立式PVD倾斜沉积硅片装载装置,其特征是:

所述基片架顶部设有若干与管式炉内导轨配合的导向滚轮,若干导向滚轮沿基片架的长度方向依次间隔布置。

3.根据权利要求1所述的立式PVD倾斜沉积硅片装载装置,其特征是:

所述基片架底部设有与管式炉内驱动机构配合的拉光圆钢。

4.根据权利要求1所述的立式PVD倾斜沉积硅片装载装置,其特征是:

所述基片架的斜撑板与竖直面之间具有10~15°的倾角。

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