[实用新型]一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统有效
| 申请号： | 202223220787.1 | 申请日： | 2022-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN218653056U | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 董黄华;崔国东 | 申请（专利权）人： | 光驰半导体技术（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B01D5/00 | 分类号： | B01D5/00;B01D50/20;B01D46/48 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及原子层沉积设备（ALD）工艺尾气处理技术领域，尤其是一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统，包括冷凝罐桶，所述冷凝罐桶的一端设置有进气管道，另一端设置有出气管道，在所述冷凝罐桶的内部固定设置有多块冷凝导流板，所述多块冷凝导流板在所述冷凝罐桶内构成曲折气流通道，所述曲折气流通道的一端连通至所述进气管道，另一端连通至所述出气管道。本实用新型的优点是：让ALD工艺尾气粉尘更多截留下来的同时不堵塞排气管道，从而延长工艺维护周期，同时降低设备投入成本,进一步降低后端尾气处理的成本及环境的污染；使ALD工艺尾气热气流充分通过结构设计过的冷凝导流板自反应后使粉尘大量自沉淀，保证过滤处理效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原子 沉积 设备 工艺 尾气 粉尘 沉淀 过滤 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光驰半导体技术（上海）有限公司，未经光驰半导体技术（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202223220787.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种碳烤机排风扇
- 下一篇：一种新能源综合供热设备
