[实用新型]一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统有效
申请号: | 202223220787.1 | 申请日: | 2022-12-02 |
公开(公告)号: | CN218653056U | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 董黄华;崔国东 | 申请(专利权)人: | 光驰半导体技术(上海)有限公司 |
主分类号: | B01D5/00 | 分类号: | B01D5/00;B01D50/20;B01D46/48 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人: | 周宇凡 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 设备 工艺 尾气 粉尘 沉淀 过滤 处理 系统 | ||
1.一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统,其特征在于:包括冷凝罐桶,所述冷凝罐桶的一端设置有进气管道,另一端设置有出气管道,在所述冷凝罐桶的内部固定设置有多块冷凝导流板,所述多块冷凝导流板在所述冷凝罐桶内构成曲折气流通道,所述曲折气流通道的一端连通至所述进气管道,另一端连通至所述出气管道。
2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统,其特征在于:所述冷凝导流板包括自所述进气管道至所述出气管道的气流流向依次布置的一块第一冷凝导流板、两块第二冷凝导流板以及一块第三冷凝导流板,其中两块所述第二冷凝导流板分别设置在第一冷凝导流板的两个端部的后方位置,所述第三冷凝导流板设置在两块所述第二冷凝导流板之间的后方位置。
3.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统,其特征在于:所述第一冷凝导流板、所述第二冷凝导流板以及所述第三冷凝导流板均呈圆弧结构。
4.根据权利要求3所述的一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统,其特征在于:自进气管道至出气管道的气流方向,所述第一冷凝导流板的圆弧开口与该气流方向相背,所述第二冷凝导流板以及所述第三冷凝导流板的圆弧开口与该气流方向相向。
5.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统,其特征在于:所述第二冷凝导流板的板体的对称中线位置对应于所述第一冷凝导流板的端部端点位置。
6.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统,其特征在于:所述进气管道和所述出气管道处于同一水平面上且与所述冷凝罐桶的桶底位置留有一定距离。
7.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统,其特征在于:所述冷凝导流板的板体高度高于所述进气管道及所述出气管道的开口位置。
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