[实用新型]一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统

说明书

本实用新型涉及原子层沉积设备（ALD）工艺尾气处理技术领域，尤其是一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统，包括冷凝罐桶，所述冷凝罐桶的一端设置有进气管道，另一端设置有出气管道，在所述冷凝罐桶的内部固定设置有多块冷凝导流板，所述多块冷凝导流板在所述冷凝罐桶内构成曲折气流通道，所述曲折气流通道的一端连通至所述进气管道，另一端连通至所述出气管道。本实用新型的优点是：让ALD工艺尾气粉尘更多截留下来的同时不堵塞排气管道，从而延长工艺维护周期，同时降低设备投入成本,进一步降低后端尾气处理的成本及环境的污染；使ALD工艺尾气热气流充分通过结构设计过的冷凝导流板自反应后使粉尘大量自沉淀，保证过滤处理效果。

技术领域

本实用新型涉及原子层沉积设备（ALD）工艺尾气处理技术领域，尤其是一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统。

背景技术

现有 ALD工艺尾气处理方式为层叠蜂窝状热表面反应结合过滤网格的截留式过滤，由于在有限的管径中要增加热反应表面面积，只能减小孔径增加孔位数量，这样增加了气流阻力的同时热表面反应过小的孔径导致过早堵塞，如只使用过滤网格截留式过滤，由于大量的工艺尾气直接在过滤网格上反应，导致过早堵塞影响排气气流，目前ALD工艺尾气处理都存在维护周期短的缺点。

发明内容

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统，通过在一冷凝罐体的内部设置多块冷凝导流板，使原子层沉积设备工艺尾气在冷凝导流板的导流作用下与各冷凝导流板接触，实现原子层沉积设备工艺尾气的自反应冷凝沉淀。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种原子层沉积设备工艺尾气粉尘自沉淀的过滤处理系统，其特征在于：包括冷凝罐桶，所述冷凝罐桶的一端设置有进气管道，另一端设置有出气管道，在所述冷凝罐桶的内部固定设置有多块冷凝导流板，所述多块冷凝导流板在所述冷凝罐桶内构成曲折气流通道，所述曲折气流通道的一端连通至所述进气管道，另一端连通至所述出气管道。

所述冷凝导流板包括自所述进气管道至所述出气管道的气流流向依次布置的一块第一冷凝导流板、两块第二冷凝导流板以及一块第三冷凝导流板，其中两块所述第二冷凝导流板分别设置在第一冷凝导流板的两个端部的后方位置，所述第三导流板设置在两块所述第二冷凝导流板之间的后方位置。

所述第一冷凝导流板、所述第二冷凝导流板以及所述第三冷凝导流板均呈圆弧结构。

自进气管道至出气管道的气流方向，所述第一冷凝导流板的圆弧开口与该气流方向相背，所述第二冷凝导流板以及所述第三冷凝导流板的圆弧开口与该气流方向相向。

所述第二冷凝导流板的板体的对称中线位置对应于所述第一冷凝导流板的端部端点位置。

所述进气管道和所述出气管道处于同一水平面上且与所述冷凝罐桶的桶底位置留有一定距离。

所述冷凝导流板的板体高度高于所述进气管道及所述出气管道的开口位置。

本实用新型的优点是：

1）让ALD工艺尾气粉尘更多截留下来的同时不堵塞排气管道，从而延长工艺维护周期，同时降低设备投入成本,进一步降低后端尾气处理的成本及环境的污染；

2）使ALD工艺尾气热气流充分通过结构设计过的冷凝导流板自反应后使粉尘大量自沉淀，保证过滤处理效果；

3）结构简单合理，使用方便，应用范围广，适于推广。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为图1的正视剖面图；

图3为本实用新型中冷凝导流板的立体示意图。

具体实施方式