[实用新型]CVD反应中金属熔体自动给料装置有效
| 申请号： | 202223024608.7 | 申请日： | 2022-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN218539820U | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 闫兴隆;金荣岩;申柱炫;梁银杰 | 申请（专利权）人： | 西安全谱红外技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448;C23C16/52;C23C16/455 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 涂秀清 |
| 地址： | 710065 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了CVD反应中金属熔体自动给料装置，包括反应炉，反应炉内底部设置坩埚，坩埚上部配置CVD反应室，CVD反应室底部开设喷嘴反应炉连接真空泵B，坩埚上垂直连接管道，管道上连通漏斗，漏斗内放置若干固体金属球，漏斗底部设置球阀。本实用新型坩埚内液态金属汽化保持平衡，不需要通过加热器消耗大量热量，坩埚温度及坩埚内蒸汽压力的调节平稳。 | ||
| 搜索关键词： | cvd 反应 金属 自动 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
