[实用新型]一种无密封槽的真空腔体有效

专利信息
申请号: 202222242829.5 申请日: 2022-08-24
公开(公告)号: CN218291086U 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 高卫民;马续航;胡青莲 申请(专利权)人: 深圳市新普真空技术有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22
代理公司: 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 代理人: 曾敬
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型属于真空镀膜设备技术领域,公开了一种无密封槽的真空腔体,包括腔体框架以及嵌设于腔体框架各个面的若干密封板,腔体框架包括第一、第二基体法兰以及设置于所述第一、第二基体法兰之间的若干密封柱,密封柱沿着基体法兰的圆周边线设置,用于与密封板相抵接;密封板与密封柱螺纹连接,密封板靠近密封柱的一侧开设有斜槽面,密封柱靠近密封板的一侧设置有挤压棱柱,挤压棱柱与斜槽面相匹配;斜槽面分为第一、第二斜面,以及设于第一斜面与第二斜面夹角处的切割槽,切割槽内设置有用于提升密封性能的第一密封圈。本实用新型设置的斜槽面与挤压棱柱很大程度降低了加工难度,更利于批量生产,此外这种结构设计也提升了腔体的密封性能。
搜索关键词: 一种 密封 空腔
【主权项】:
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