[实用新型]基座支撑装置及薄膜沉积设备有效
申请号: | 202222228061.6 | 申请日: | 2022-08-23 |
公开(公告)号: | CN217895749U | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | 郑冬;徐春阳 | 申请(专利权)人: | 楚赟精工科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/44 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201210 上海市浦东*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种基座支撑装置及薄膜沉积设备,包括基座和旋转轴;所述基座包括第一表面和第二表面,所述第一表面用于放置若干待处理的基片,所述第二表面中心处设置有凹陷部,且所述凹陷部向所述基座内延伸一深度;所述旋转轴的一端设置有凸设部,且所述凸设部与所述凹陷部适配连接,以使所述旋转轴带动所述基座同步发生转动;所述凸设部和所述凹陷部沿着所述旋转轴的径向截面均呈多边形结构;其中,所述凹陷部向所述基座内延伸的深度与所述基座的转速相适配;本实用新型采用径向截面呈多边形结构的凸设部和凹陷部适配连接,避免发生起步打滑;并能减少基座中心凹陷部向基座内延伸的深度,提高了基座温度的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 基座 支撑 装置 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的