[实用新型]一种碳化硅炉真空压力调控装置有效

专利信息
申请号: 202222062784.3 申请日: 2022-08-05
公开(公告)号: CN218235378U 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 陈士利;贺贤汉;赖章田;夏孝平;陈有生;周旭阳 申请(专利权)人: 上海汉虹精密机械有限公司
主分类号: F04B37/14 分类号: F04B37/14;F04B39/10;F04B51/00;F04B49/08;F04D19/04;F04D29/00
代理公司: 上海申浩律师事务所 31280 代理人: 赵建敏
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种碳化硅炉真空压力调控装置,包括生长炉,生长炉的上方连接一充气系统,生长炉的右侧连接第一抽气支路和第二抽气支路,第一抽气支路包括第一比例控制阀和真空泵,第一比例控制阀和真空泵分别通过真空管路与生长炉连接,真空泵还与一排放管路连接,第二抽气支路包括插板阀、分子泵和第二比例控制阀,第二抽气支路通过真空管路与第一抽气支路和生长炉导通;生长炉的右侧还连接超压保护支路和真空释放支路,超压保护支路包括一单向阀,单向阀的一端通过真空管路连接生长炉,单向阀的另一端与排放管路连接,真空释放支路包括电动加气阀和手动加气阀,电动加气阀和手动加气阀分别安装在真空管路上。
搜索关键词: 一种 碳化硅 真空 压力 调控 装置
【主权项】:
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