[实用新型]一种真空镀膜装置有效
| 申请号： | 202221719645.7 | 申请日： | 2022-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN218026309U | 公开（公告）日： | 2022-12-13 |
| 发明（设计）人： | 臧世伟 | 申请（专利权）人： | 重庆金美新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市深可信专利代理有限公司 44599 | 代理人： | 杨伟 |
| 地址： | 404100 重庆市綦江*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括真空腔室，还包括设置在所述真空腔室内的蒸镀机构、驱动机构和两个薄膜输送机构，所述两个薄膜输送机构分别位于所述真空腔室内的左侧和右侧，所述驱动机构用于将所述蒸镀机构驱动至薄膜输送机构的下方，当蒸镀机构位于真空腔室内左侧的薄膜输送机构的下方时，蒸镀机构用于对所述左侧的薄膜输送机构上的薄膜进行镀膜，当蒸镀机构位于真空腔室内右侧的薄膜输送机构的下方时，蒸镀机构用于对所述右侧的薄膜输送机构上的薄膜进行镀膜。本实用新型通过设置驱动机构驱动蒸镀机构在两个薄膜输送机构之间往复移动，从而通过一个蒸镀机构可实现对两个薄膜输送机构输送的薄膜进行镀膜，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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