[实用新型]一种真空镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括真空腔室，还包括设置在所述真空腔室内的蒸镀机构、驱动机构和两个薄膜输送机构，所述两个薄膜输送机构分别位于所述真空腔室内的左侧和右侧，所述驱动机构用于将所述蒸镀机构驱动至薄膜输送机构的下方，当蒸镀机构位于真空腔室内左侧的薄膜输送机构的下方时，蒸镀机构用于对所述左侧的薄膜输送机构上的薄膜进行镀膜，当蒸镀机构位于真空腔室内右侧的薄膜输送机构的下方时，蒸镀机构用于对所述右侧的薄膜输送机构上的薄膜进行镀膜。本实用新型通过设置驱动机构驱动蒸镀机构在两个薄膜输送机构之间往复移动，从而通过一个蒸镀机构可实现对两个薄膜输送机构输送的薄膜进行镀膜，降低了生产成本。

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀领域，具体的是涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜装置一般包括薄膜输送机构和位于薄膜输送机构下方的蒸镀机构，蒸镀机构用于生成蒸发镀料，以使蒸发镀料沉积到薄膜的下表面以形成金属层，从而实现对薄膜进行镀膜。现有的蒸镀机构通常是固定在薄膜输送机构的下方的，当薄膜输送机构的数量为两个时，就需要配置两个蒸镀机构，这样生产成本会比较高。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种真空镀膜装置，可降低生产成本。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种真空镀膜装置，包括真空腔室，还包括设置在所述真空腔室内的蒸镀机构、驱动机构和两个薄膜输送机构，所述两个薄膜输送机构分别位于所述真空腔室内的左侧和右侧，所述驱动机构用于将所述蒸镀机构驱动至薄膜输送机构的下方，当蒸镀机构位于真空腔室内左侧的薄膜输送机构的下方时，蒸镀机构用于对所述左侧的薄膜输送机构上的薄膜进行镀膜，当蒸镀机构位于真空腔室内右侧的薄膜输送机构的下方时，蒸镀机构用于对所述右侧的薄膜输送机构上的薄膜进行镀膜。

作为优选的技术方案，所述蒸镀机构的蒸发源面呈矩形，所述蒸发源面的尺寸与薄膜镀膜区域的尺寸相适配。

作为优选的技术方案，所述两个薄膜输送机构之间设有竖向的隔板，当所述蒸镀机构对其中一个薄膜输送机构上的薄膜进行镀膜时，所述隔板可阻挡蒸镀机构生成的蒸发镀料向另一个薄膜输送机构扩散。

作为优选的技术方案，所述蒸镀机构包括支撑座、供料单元、加热单元和蒸发舟，所述支撑座用于支撑所述加热单元和蒸发舟，所述供料单元用于给所述蒸发舟供应镀料，所述加热单元用于加热所述蒸发舟内的镀料。

作为优选的技术方案，所述驱动机构包括设置在所述真空腔室内的减速电机，所述减速电机位于所述两个薄膜输送机构之间；所述减速电机的输出轴竖直朝上设置，所述支撑座的一端连接有平台，所述供料单元设置在所述平台上，所述平台的底部设有连接孔，所述输出轴的上端伸入到所述连接孔内，所述输出轴的上端外周设有环形外齿段，所述连接孔的内壁设有环形内齿段，所述环形内齿段与环形外齿段啮合；所述供料单元或平台上设有限位部，用于对所述输出轴的上端进行限位以防止输出轴穿出所述连接孔；所述支撑座的底部设有滚轮。

作为优选的技术方案，所述支撑座还用于支撑所述供料单元。

作为优选的技术方案，所述支撑座还用于支撑所述供料单元；所述驱动机构包括设置在所述支撑座底部的驱动电机、齿轮和滚轮，所述驱动电机的输出轴呈水平设置，所述齿轮套设到所述输出轴的外周，所述真空腔室内底部设有条形限位槽，所述限位槽用于对所述齿轮的两侧进行限位，所述限位槽的长度方向与薄膜的宽度方向一致，限位槽内设有沿其长度方向延伸的齿条，所述齿轮与所述齿条啮合，所述滚轮与所述真空腔室内底部接触以对所述支撑座提供支撑。

作为优选的技术方案，所述隔板的两侧均设有筒状防护罩，所述防护罩用于将所述蒸镀机构生成的蒸发镀料聚集通往薄膜，所述防护罩的入口轮廓与蒸镀机构的蒸发源面的轮廓相适配。

作为优选的技术方案，所述防护罩的其中两侧为隔板和真空腔室的内壁。