[实用新型]外延片及发光二极管有效

专利信息
申请号: 202221232215.2 申请日: 2022-05-20
公开(公告)号: CN218351492U 公开(公告)日: 2023-01-20
发明(设计)人: 曹斌斌;胡加辉;金从龙 申请(专利权)人: 江西兆驰半导体有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32
代理公司: 南昌旭瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 36150 代理人: 彭琰
地址: 330000 江西省南昌市南*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型提供一种外延片及发光二极管,外延片包括衬底,还包括依次层叠于所述衬底上的缓冲叠层、N型半导体层、有源发光层、电子阻挡叠层以及P型半导体层;所述缓冲叠层包括依次层叠于所述衬底上的第一缓冲子层、第二缓冲子层以及第三缓冲子层,所述第一缓冲子层和第二缓冲子层均为InN层,所述第三缓冲子层为N型掺杂的InGaN层且其In含量沿远离所述衬底的方向依次递减。本实用新型提出的外延片,通过设置缓冲叠层,以降低衬底与外延层之间的晶格失配,减少外延生长缺陷,进而提高外延长晶质量,从而提高发光效率。
搜索关键词: 外延 发光二极管
【主权项】:
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