[实用新型]一种HWCVD设备镀膜腔体有效
申请号: | 202220969342.4 | 申请日: | 2022-04-25 |
公开(公告)号: | CN217579061U | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 孟虹辰;吴小元;周浪 | 申请(专利权)人: | 南昌大学共青城光氢储技术研究院 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/24 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 王焕巧 |
地址: | 332020 江西省九江市共*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种HWCVD设备镀膜腔体,单个腔体内设置多排热丝与多块载板,各载板与所面向的热丝排间的距离是1‑13cm,且各载板与相邻热丝排间距相同或不同,热丝排内相邻热丝间距是1‑13cm,且热丝排内各热丝间距相同或不同。采用本实用新型腔体镀膜不仅可保持各载板镀膜的一致性,而且样品的镀膜温度和镀膜速率也可明显提升,从而实现了设备产能的数倍提升和设备单产能能耗的下降,大幅度降低设备制造成本和设备运营成本。热丝本身也是热源,多排热丝减少了单位热丝能量的损失,结合热丝排与载板间距和热丝排内热丝间距的调整可以非常方便的实现高温镀膜,更有利于制备topcon这类需要高温镀膜条件的太阳能电池。 | ||
搜索关键词: | 一种 hwcvd 设备 镀膜 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的