[实用新型]一种精密调节气体分布的气管机构

摘要

本实用新型公开了一种精密调节气体分布的气管机构，包括总气管，所述总气管上开设有多个出气孔，各个所述出气孔等距排列设置在总气管上。本实用新型的精密调节气体分布的气管机构，对真空镀膜炉的内部进行气体输送的过程中，因各个分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，且各个出气孔等距排列设置在总气管上，总气管内部输送后的工作气体与反应气体可以通过各个出气孔等距排布的进入至真空镀膜炉的内部，使进入真空镀膜炉内部的气体可以更加均匀的进行反应，降低真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在的偏差，进一步的降低产品真空镀膜过程中产生色差的几率，提高了真空镀膜的质量。