[实用新型]一种精密调节气体分布的气管机构

说明书

本实用新型公开了一种精密调节气体分布的气管机构，包括总气管，所述总气管上开设有多个出气孔，各个所述出气孔等距排列设置在总气管上。本实用新型的精密调节气体分布的气管机构，对真空镀膜炉的内部进行气体输送的过程中，因各个分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，且各个出气孔等距排列设置在总气管上，总气管内部输送后的工作气体与反应气体可以通过各个出气孔等距排布的进入至真空镀膜炉的内部，使进入真空镀膜炉内部的气体可以更加均匀的进行反应，降低真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在的偏差，进一步的降低产品真空镀膜过程中产生色差的几率，提高了真空镀膜的质量。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种精密调节气体分布的气管机构。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。

现有的真空镀膜设备在工作的过程中，难以均匀的将工作气体与反应气体输送至真空镀膜炉的内部，造成真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在偏差，使产品镀膜过程中易存在色差，且工作气体与反应气体在输送的过程中难以精准把控输送气体的量，不便于产品的真空镀膜操作。

因此亟需一种精密调节气体分布的气管机构来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种精密调节气体分布的气管机构，以解决上述背景技术中提出的现有的真空镀膜设备在工作的过程中，难以均匀的将工作气体与反应气体输送至真空镀膜炉内部的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种精密调节气体分布的气管机构，设置于真空镀膜炉内部，包括总气管，所述总气管上开设有多个出气孔，各个所述出气孔等距排列设置在总气管上，各个所述出气孔与真空镀膜炉的内部相通设置，所述总气管上安装有多个用于真空镀膜过程工作气体及反应气体输送的分气管，所述分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，各个所述分气管的另一端通过安装机构连接有输送管。

各个所述分气管上安装有流量控制阀。

所述安装机构包括固定在分气管上的操作管，所述操作管上开设有多个滑动槽，各个所述滑动槽上滑动连接有滑动板，各个所述滑动板位于操作管内部的一端固定有弧形挤压板，所述操作管上设置有用于各个滑动板驱动的驱动机构，所述操作管内部设置有用于分气管与输送管之间气体输送过程密封的密封机构。

各个所述滑动槽为方形槽，各个所述滑动板分别与各个滑动槽相互匹配设置。

各个所述滑动槽环形阵列设置在操作管上。

所述密封机构包括滑动连接在分气管一端的滑动管，所述滑动管的一端位于操作管的内部并固定有环形板，所述滑动管的侧壁上套设有弹簧，所述弹簧的两端分别与操作管的内壁及环形板相连接。

所述驱动机构包括转动连接在操作管一端的驱动环，所述驱动环靠向各个滑动板的一侧设置有螺旋条，所述螺旋条上滑动连接有多个传动板，各个所述传动板分别与各个滑动板相固定。

所述驱动环上固定有驱动销，所述驱动销上设置有防滑凸起。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型的精密调节气体分布的气管机构，对真空镀膜炉的内部进行气体输送的过程中，因各个分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，且各个出气孔等距排列设置在总气管上，总气管内部输送后的工作气体与反应气体可以通过各个出气孔等距排布的进入至真空镀膜炉的内部，使进入真空镀膜炉内部的气体可以更加均匀的进行反应，降低真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在的偏差，进一步的降低产品真空镀膜过程中产生色差的几率，提高了真空镀膜的质量。