[实用新型]一种金属硅冶炼深度除杂装置

摘要

本实用新型公开了一种金属硅冶炼深度除杂装置，包括装置主体，所述装置主体的顶部设有盖板，所述盖板的顶端设有进料口，所述盖板端面贯穿设有进料机构，所述进料机构包括外壳，所述外壳呈圆柱形腔体，所述外壳的内表面转动设有进料盘，所述进料盘的端面贯穿设有进料腔，所述进料腔分别设置在所述进料盘的外沿处，本实用新型通过设置装置主体，在装置主体盖板处设置进料机构用于相装置主体内部投加组合絮剂，通过设置外壳，外壳内部设置进料盘，并在进料盘的外部设置进料腔，组合絮剂通过进料斗进入进料腔内部后，转动进料盘，当进料腔转动至外壳下端的连接管后，即可进入装置主体的内部，从而可实现定量投加，同时也可实现连续投加。