[实用新型]一种同轴结构微波等离子体镀膜设备有效
申请号: | 202220152228.2 | 申请日: | 2022-01-18 |
公开(公告)号: | CN216891211U | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 卫新宇;陈龙威;张文瑾;林启富;刘成周;江贻满 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 江亚平 |
地址: | 230031 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种同轴结构微波等离子体镀膜设备,属于等离子体技术领域,包括有真空腔室,同轴微波源系统,所述同轴微波源系统通过馈入结构将特定频率和模式的能量馈入指定反应区域产生等离子体,并将工作气体沉积于所述空心圆柱衬底内测,完成材料的镀膜过程。本实用新型可根据实际空心圆柱衬底区域完成匹配,成膜效率高,成膜质量好。其采用同轴结构的特殊镀膜结构,可实现对铜、铁、铝、金、银等各种金属材料或复合金属材料空心圆柱体的内部镀膜,且该系统可针对实际的镀膜场景对内导体、玻璃管及密封系统灵活调节,可轻松满足各种生产需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 同轴 结构 微波 等离子体 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院合肥物质科学研究院,未经中国科学院合肥物质科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202220152228.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种危险工作巡检用一次性无人机
- 下一篇:一种高强度抗腐蚀过滤角阀
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的