[实用新型]一种同轴结构微波等离子体镀膜设备

权利要求书

1.一种同轴结构微波等离子体镀膜设备，其特征在于：包括微波电源(1)、磁控管(2)、环形器(3)、矩形波导(4)、模式转换器(5)、同轴波导(6)、内导体(7)、排气口(8)、进气口(9)、空心圆柱衬底(10)、压力控制装置(11)、石英管(12)、密封装置(13)、真空腔室(14)；所述空心圆柱衬底(10)、石英管(12)与所述密封装置(13)组成真空腔室(14)；所述进气口(9)开设于密封装置(13)的下端，且排气口(8)开设于另一端的密封装置(13)的上侧；所述压力控制装置(11)安装于进气口(9)的上端；所述石英管(12)设于内导体(7)的外侧，且放置于真空腔室(14)内部，并与密封装置(13)相连；所述同轴波导(6)安装于密封装置(13)的两侧，通过内导体(7)与模式转换器(5)端部相连接；所述模式转换器(5)的另一端口与矩形波导(4)连接；所述环形器(3)安置于矩形波导(4)和磁控管(2)之间；所述微波电源(1)安装于磁控管(2)的底部。

2.根据权利要求1所述的一种同轴结构微波等离子体镀膜设备，其特征在于：所述空心圆柱衬底(10)的内壁是镀膜的区域，铜、铁、铝、金、银或复合金属材料皆可满足镀膜所需条件；所述空心圆柱衬底(10)被视为外导体与内导体(7)形成同轴传输结构，形成均匀等离子体。

3.根据权利要求1所述的一种同轴结构微波等离子体镀膜设备，其特征在于：所述内导体(7)和石英管(12)的尺寸根据所述空心圆柱衬底(10)的尺寸和需求灵活调整。

4.根据权利要求1所述的一种同轴结构微波等离子体镀膜设备，其特征在于：所述微波电源(1)的电磁波频率根据场景需求选定。

5.根据权利要求4所述的一种同轴结构微波等离子体镀膜设备，其特征在于：所述电磁波频率于0.915、2.45或2.45-30GHz范围内调节。

6.根据权利要求1所述的一种同轴结构微波等离子体镀膜设备，其特征在于：所述压力控制装置(11)实时监控所述真空腔室(14)内部的压强，且可随时数字化调节所述真空腔室(14)内部压力至所需压力，并保持稳定。