[发明专利]槽型绝缘栅双极型晶体管及其制备方法在审
申请号: | 202211697847.0 | 申请日: | 2022-12-28 |
公开(公告)号: | CN115799310A | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 徐航;杨雅芬;张卫 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路制造创新中心有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/739;H01L21/331 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 吴浩 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种槽型绝缘栅双极型晶体管及其制备方法,其中槽型绝缘栅双极型晶体管包括N型硅衬底、第一屏蔽栅、第二屏蔽栅、控制栅、发射极、正面P型阱区、N型载流子存储层和高掺杂的载流子存储层;N型硅衬底上开设有沟槽,正面P型阱区、N型载流子存储层和发射极分别位于沟槽的两侧,高掺杂的载流子存储层在左侧,且发射极位于正面P型阱区的上方,正面P型阱区位于N型载流子存储层的上方;第一屏蔽栅、第二屏蔽栅和控制栅设于沟槽内,且第一屏蔽栅和控制栅并排设置,第二屏蔽栅位于第一屏蔽栅和控制栅的底部;所述第一屏蔽栅和所述第二屏蔽栅与所述发射极电势相等。本发明消除集电极对沟槽栅的影响,降低了栅电荷,改善动态特性。 | ||
搜索关键词: | 绝缘 栅双极型 晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路制造创新中心有限公司,未经上海集成电路制造创新中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211697847.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类