[发明专利]一种金属掩膜版的蚀刻方法及金属掩膜版在审

专利信息
申请号: 202211629439.1 申请日: 2022-12-19
公开(公告)号: CN116180080A 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 徐华伟;沈洵 申请(专利权)人: 浙江众凌科技有限公司
主分类号: C23F1/02 分类号: C23F1/02;C23F4/00;C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 杭州凯知专利代理事务所(普通合伙) 33267 代理人: 金国栋;孙安程
地址: 314200 浙江省嘉兴市海宁市海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种金属掩膜版的蚀刻方法及金属掩膜版,包括S500:在初步蚀刻完的金属掩膜版基材的第一主表面上完整涂覆抗蚀剂并填满第一凹陷区,在第二主表面上完整涂覆抗蚀剂并填满第二凹陷区;S600:第一主表面全面固化抗蚀剂,第二主表面制作出第三镂空区;S700:将第二主表面的第三镂空区蚀刻出第三凹陷区,第三凹陷区、第二凹陷区与第一凹陷区连通形成蚀刻孔,所述蚀刻孔贯穿金属掩膜版基材。本发明通过制程工艺方法,降低蚀刻的侧蚀量,使得金属掩膜版成品厚度仍维持金属掩膜版基材厚度,保证了成品的整体结构强度。
搜索关键词: 一种 金属 掩膜版 蚀刻 方法
【主权项】:
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