[发明专利]一种铜蚀刻液组合物在审

专利信息
申请号: 202211620268.6 申请日: 2022-12-15
公开(公告)号: CN115725974A 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 王维康;黄德新;吴际峰;张家明;操岳峰;许磊 申请(专利权)人: 合肥中聚和成电子材料有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 代理人: 缪璐欢
地址: 231607 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种铜蚀刻液组合物,具体涉及液晶面板加工中铜线路蚀刻技术领域。按组合物的质量100%计,其由10‑30%双氧水、0.01‑1%双氧水稳定剂、0.1‑2%酸、0.1‑2%缓蚀剂、0.5‑5%螯合剂、0.1‑3%表面活性剂、其余为水组成。有益效果:本发明的铜蚀刻液配方提高了铜蚀刻液使用的安全性,为铜蚀刻液的配方升级到更高的使用寿命提供了解决方法,同时此配方体系使用的添加剂都有大规模市场化,成本低,适合大规模使用。
搜索关键词: 一种 蚀刻 组合
【主权项】:
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