[发明专利]一种降低烧结后ITO平面靶翘曲的方法在审
申请号: | 202211616137.0 | 申请日: | 2022-12-15 |
公开(公告)号: | CN116143547A | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 李帅;尹琳;曾光鹏;李明鸿;李叶 | 申请(专利权)人: | 先导薄膜材料(广东)有限公司 |
主分类号: | C04B41/80 | 分类号: | C04B41/80;C23C14/34;C23C14/08;C04B35/66;C04B41/00 |
代理公司: | 清远市诺誉知识产权代理事务所(普通合伙) 44815 | 代理人: | 龚元元 |
地址: | 511500 广东省清*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于ITO靶材领域,具体涉及一种降低烧结后ITO平面靶翘曲的方法,在翘曲的ITO平面靶的翘曲的位置的表面施加6‑20N的力,然后升温至850‑950℃,保温一段时间,最后升温至1500~1600℃,保温一段时间。采用本发明的方法具有精度高、靶材受损小的优势。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 烧结 ito 平面 靶翘曲 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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