[发明专利]气相沉积设备有效
申请号: | 202211601478.0 | 申请日: | 2022-12-14 |
公开(公告)号: | CN115613002B | 公开(公告)日: | 2023-03-17 |
发明(设计)人: | 马保群;陈涛 | 申请(专利权)人: | 陛通半导体设备(苏州)有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 李艾 |
地址: | 215400 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及气相沉积设备,包括:腔体,基台包括台面和基轴,台面位于腔体内,基轴连接台面下表面,基轴穿过腔体连接有调节板;行星组件包括旋转架,旋转架内周设置有内齿圈,旋转架底面中心与旋转轴心转动连接,旋转轴心安装在支撑板上,旋转轴心位于旋转架内的一端连接有行星架,行星架中心转动连有中心齿轮,行星架的多个端部分别转动连接有行星轮,行星轮分别与内齿圈和中心齿轮啮合;多个旋转升降组件通过固定板相连,旋转升降组件与调节板相接,旋转升降组件通过行星轮的旋转驱动升降;支撑板和固定板通过安装板固定连接于腔体下方。本发明操作简便,实现多点同步调节,提高了基台升降便捷性。 | ||
搜索关键词: | 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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