[发明专利]PNIPAM在制备具有对水和温度响应性的高分辨率电子束抗蚀剂中的应用在审

专利信息
申请号: 202211593082.6 申请日: 2022-12-13
公开(公告)号: CN115857276A 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 埃泽尔·马丁·阿金诺古;许海胜;劳伦斯·德·哈恩;金名亮;王新;周国富 申请(专利权)人: 肇庆市华师大光电产业研究院
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/09;G03F7/32;G03F7/038;G03F7/004
代理公司: 广州正明知识产权代理事务所(普通合伙) 44572 代理人: 成姗
地址: 526000 广东省肇庆市高*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于微纳米加工的技术领域,公开了PNIPAM在制备具有对水和温度响应性的高分辨率电子束抗蚀剂中的应用,所述PNIPAM是负性抗蚀剂,具体应用步骤包括S1、在预处理好的基片上制备PNIPAM抗蚀剂涂层;S2、设计微纳米图案,对步骤S1制备的样品进行电子束曝光;S3、对步骤S2所得样品用显影液显影。本发明仅用纯水作为溶解性溶剂制备PNIPAM抗蚀剂,在电子曝光完成后,显影液仅使用纯水完成显影,显影后的微纳米图案具有温度响应性且该响应性不受图案结构尺寸的影响。整个实验过程绿色无毒,大大减少整个电子束曝光过程中的负担,可广泛应用于研究下一代超大规模集成电路,以及微型机械设备和其他智能设备的制造。
搜索关键词: pnipam 制备 具有 温度 响应 高分辨率 电子束 抗蚀剂 中的 应用
【主权项】:
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