[发明专利]IC载板与类载板SLP闪蚀方法在审
申请号: | 202211463735.9 | 申请日: | 2022-11-17 |
公开(公告)号: | CN115734497A | 公开(公告)日: | 2023-03-03 |
发明(设计)人: | 徐志强;胡伟进 | 申请(专利权)人: | 欣强电子(清远)有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;H05K3/00 |
代理公司: | 广州高炬知识产权代理有限公司 44376 | 代理人: | 王昌金 |
地址: | 511500 广东省清远市高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于半导体封装技术领域,尤其为IC载板与类载板SLP闪蚀方法,采用二级快速闪蚀方法,在通过双氧水/硫酸蚀刻液快速闪蚀后,利用无有机添加剂的微蚀蚀刻液消除铜牙残留,具体包括以下步骤:S1、配置双氧水/硫酸蚀刻液;S2、配置微蚀蚀刻液;S3、线路图形选择电镀铜,全板镀铜;S4、剥去干膜;S5、闪蚀;S6、一级水洗;S7、二级微蚀;发明采用二级快速闪蚀方法,在现用的双氧水加硫酸配方快速闪蚀后,新增一级无添加剂配方的微蚀,用于专门腐蚀IC载板与类载板SLP铜箔的铜牙,与消除有机添加剂残留的不良影响,进而可以采用正常铜牙的普通轮廓线铜箔,提高铜箔附着力,保证品质。 | ||
搜索关键词: | ic 类载板 slp 方法 | ||
【主权项】:
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