[发明专利]一种微纳结构及其制备方法有效
| 申请号： | 202211425238.X | 申请日： | 2022-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN115903396B | 公开（公告）日： | 2023-08-04 |
| 发明（设计）人： | 王岩;徐鹏飞 | 申请（专利权）人： | 江苏华兴激光科技有限公司;无锡华兴光电研究有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/42 |
| 代理公司： | 江苏长德知识产权代理有限公司 32478 | 代理人： | 王金华 |
| 地址： | 221000 江苏省徐州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微纳结构及其制备方法，涉及微纳光学技术领域，目的在于提供一种简化光刻工艺中各步骤的实现方式、提高光刻效率和抗蚀液去除效果的微纳结构及其制备方法，其技术要点是涉及该微纳结构制备方法的制造设备，制造设备包括用于加热晶圆片的加热系统、用于刻蚀电路图案的光照系统、用于清洗抗蚀剂的显影腔和用于带动承片台在加热系统、光照系统和显影腔之间移动的传动系统，且承片台进入显影腔清洗时，晶圆片的光刻面朝下，技术效果是通过设置传动系统，带动承片台在加热系统、光照系统和显影腔之间移动，改变现有光刻工艺中各步骤的实现方式，无需单独设置机械臂来安装烘干设备，承片台转动进入显影腔，简化晶圆片的清洗方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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