[发明专利]一种微纳结构及其制备方法

权利要求书

1.一种微纳结构，包括晶圆片（17），晶圆片（17）上设有多个芯片（20），其特征在于：芯片（20）上设有由光刻技术刻蚀形成的电路图案；微纳结构的制备方法，应用于所述的一种微纳结构，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将抗蚀剂液体喷涂至晶圆片（17）上，控制晶圆片（17）高速旋转，使液体均匀分布至晶圆片（17）上；

S2、加热涂覆有抗蚀剂的晶圆片（17）以固化抗蚀剂；

S3、用光照射抗蚀剂使其反应，完成曝光刻蚀；

S4、将曝光的晶圆片（17）浸入显影液中，然后去除多余的抗蚀剂，使电路图案显现；

S5、通过加热方式除去附着的冲洗液；

其中涉及该微纳结构制备方法的制造设备，制造设备包括用于加热晶圆片（17）的加热系统、用于刻蚀电路图案的光照系统、用于清洗抗蚀剂的显影腔（21）和用于带动承片台（18）在加热系统、光照系统和显影腔（21）之间移动的传动系统，且承片台（18）进入显影腔（21）清洗时，晶圆片（17）的光刻面朝下；在进行步骤S1之前，将晶圆片（17）安装在承片台（18）上，承片台（18）通过传动系统调控，传动系统带动承片台（18）沿着X轴移动；承片台（18）与晶圆片（17）的接触面为陶瓷材料，承片台（18）与晶圆片（17）之间通过半导体陶瓷凝胶粘接固定；加热系统包括烘干箱（2），烘干箱（2）的内部固定安装有加热丝（3），烘干箱（2）的侧壁开设有用于晶圆片（17）进出的进出口（4）；

光照系统包括驱动组件和光照组件，驱动组件用于带动光照组件沿着Y轴移动，光照组件包括光源（5）、分光镜（6）、反光镜（7）和曝光镜头（8），曝光镜头（8）下方设有掩模版（9），光源（5）发出光线，光线依次穿过分光镜（6）、反光镜（7）后和曝光镜头（8），曝光镜头（8）射出的光束穿过掩模版（9）后刻蚀图案；

传动系统包括传动电机（10）、传动螺杆（11）、限位杆（12）、传动气缸（23）、传动台（13）和转动电机（14），传动电机（10）在机座（1）的外壁上固定安装，传动电机（10）的输出轴驱动连接传动螺杆（11），传动螺杆（11）与机座（1）的内壁转动连接，传动气缸（23）在机座（1）的外壁上固定安装，传动气缸（23）的伸缩端固定安装限位杆（12），传动台（13）与传动螺杆（11）螺纹套接、并与限位杆（12）滑动套接；

烘干箱（2）在机座（1）顶面固定安装，机座（1）的内腔固定安装分隔板（22），分隔板（22）的侧壁与机座（1）的侧壁固定连接，且分隔板（22）的一侧与机座（1）之间形成显影腔（21），机座（1）上开设有传动孔（15）和清洗入口（16），转动电机（14）在传动台（13）上固定安装，转动电机（14）的输出轴穿过传动孔（15）并与承片台（18）固定连接，传动系统带动承片台（18）穿过清洗入口（16）进入显影腔（21），且当承片台（18）的中心与清洗入口（16）的中心重合时，传动台（13）与限位杆（12）分离。

2.根据权利要求1所述的一种微纳结构的制备方法，其特征在于：在S2中，控制传动电机（10）正向旋转，传动螺杆（11）为传动台（13）提供旋转趋势，限位杆（12）对传动台（13）进行限位，使传动台（13）沿着传动螺杆（11）的轴向移动并带动承片台（18）进入烘干箱（2）。

3.根据权利要求2所述的一种微纳结构的制备方法，其特征在于：在S3中，控制传动电机（10）正反旋转，使传动台（13）带动承片台（18）沿着X轴左右移动；

启动驱动组件，驱动组件为驱动气缸，驱动气缸的伸缩端与光照组件的外壳固定连接，驱动气缸带动光照组件沿着Y轴往复移动。

4.根据权利要求3所述的一种微纳结构的制备方法，其特征在于：在S4中，控制传动电机（10）反向旋转，使传动台（13）带动承片台（18）移动至清洗入口（16）的上方，此时，限位杆（12）与传动台（13）分离，传动电机（10）继续运转，传动台（13）跟随传动螺杆（11）转动，使承片台（18）进入显影腔（21）的内部；

传动电机（10）带动传动台（13）高速旋转，显影腔（21）用于盛放清洗液，晶圆片（17）反复浸入清洗液的内部，除去抗蚀剂。

5.根据权利要求4所述的一种微纳结构的制备方法，其特征在于：在S5中，控制传动电机（10）正向旋转，使传动台（13）沿着传动螺杆（11）的轴向移动并带动承片台（18）进入烘干箱（2），烘干箱（2）中的加热丝（3）通电加热，除去附着的清洗液；之后，电热丝继续通电加热，直至烘干箱（2）温度达到半导体陶瓷凝胶的排除温度。