[发明专利]分离层形成用组合物、带有分离层的支撑基体、层叠体及其制造方法和电子部件的制造方法在审
| 申请号： | 202211403430.9 | 申请日： | 2022-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN116262863A | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 富冈有希;吉冈孝广;鹈野和英 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D163/00 | 分类号： | C09D163/00;C03C17/32;B32B17/06;B32B37/12;H01L21/56;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 焦成美 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及分离层形成用组合物、带有分离层的支撑基体、层叠体及其制造方法和电子部件的制造方法。本发明提供能够形成在支撑基体与基板之间具备分离层的层叠体中光反应性进一步提高且支撑基体从层叠体的分离性得到提高的分离层的分离层形成用组合物等。采用分离层形成用组合物，其用于在使光透过的支撑基体(1)与基板(4)之间具备分离层(2)及粘接层(3)的层叠体(10)中形成分离层，该分离层能通过来自支撑基体侧的光的照射而变性从而使支撑基体从层叠体分离，所述分离层形成用组合物含有具有通式(p1)表示的重复单元的树脂成分(P)。通式(p1)中L |
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| 搜索关键词： | 分离 形成 组合 带有 支撑 基体 层叠 及其 制造 方法 电子 部件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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