[发明专利]一种柔性硅纳米线薄膜的制备方法及其所得产品

摘要

本发明公开了一种柔性硅纳米线薄膜的制备方法及其所得产品，属于柔性硅材料技术领域。所述制备方法，包括如下步骤：1)将清洗、干燥后的硅基底沉积银纳米颗粒；2)将表面包覆银纳米颗粒的硅基底进行第一次刻蚀，形成纳米线阵列；3)将第一次刻蚀后的硅基底进行清洗后进行第二次刻蚀，蚀刻后在硅纳米线阵列中产生一条水平裂痕；4)将粘性柔性衬底粘于二次刻蚀后的硅纳米线阵列表面，撕下得到柔性硅纳米线薄膜。本发明提供的方法操作简单、耗时短，成本低，硅纳米线阵列便于大面积转移到柔性基板上，且转移率高。制备得到的柔性硅纳米线薄膜吸光效果好。