[发明专利]薄膜沉积设备进气模块以及薄膜沉积设备在审
申请号: | 202211386471.1 | 申请日: | 2022-11-07 |
公开(公告)号: | CN115747767A | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 魏薇;张赛谦;刘振;王婷 | 申请(专利权)人: | 拓荆科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡林岭 |
地址: | 110171 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种薄膜沉积设备进气模块及薄膜沉积设备。该进气模块包括中间进气管路及第二进气管路。中间进气管路贯穿于薄膜沉积设备进气模块的顶部和底部。第二进气管路包括横向进气支路、纵向的双层环形管路及连通管路。横向进气支路具有进气口和出气口,进气口开设于薄膜沉积设备进气模块的侧部。纵向的双层环形管路包括第一环形管路和第二环形管路。第一环形管路的内径小于和第二环形管路的内径。第二环形管路的顶端入口与横向进气支路的出气口无缝连通。连通管路位于第一环形管路和第二环形管路之间,所述连通管路包括至少一个横向支路,各横向支路的两端分别开设于所述第一环形管路和所述第二环形管路的侧壁。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 模块 以及 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的