[发明专利]一种基于涡旋圆艾里的激增自聚焦电子束生成方法及系统有效

专利信息
申请号: 202211330455.0 申请日: 2022-10-28
公开(公告)号: CN115394621B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 邓冬梅;蔡学震;唐惠琳 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01J37/21 分类号: H01J37/21;H01J37/06;H01J37/14;H01J37/22;G02B27/09
代理公司: 广州容大知识产权代理事务所(普通合伙) 44326 代理人: 潘素云
地址: 510000 *** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于涡旋圆艾里的激增自聚焦电子束生成方法及系统,电子枪发射电子束;电子束透射过一个纳米全息衍射图,纳米全息衍射图的图样经过计算进行立方相位调制,使透射过的电子束被调制成圆艾里电子束;圆艾里电子束再经过一个叉形衍射全息图,在圆艾里电子束中心轴处生成涡旋,得到带有中心涡旋的圆艾里电子束,即为涡旋圆艾里电子束;涡旋圆艾里电子束再通过磁透镜聚焦,涡旋圆艾里波包在焦平面上形成并且焦平面开始记录涡旋圆艾里电子束的传播;通过透射电子显微镜观察到涡旋圆艾里电子束的横截面。本发明能够很好地控制圆艾里电子束的初始场,便于调控参数;生成的电子束相比于其他电子束具有更强的聚焦能力,并且带有轨道角动量。
搜索关键词: 一种 基于 涡旋 圆艾里 激增 自聚焦 电子束 生成 方法 系统
【主权项】:
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