[发明专利]一种芳纶基石墨膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202211210684.9 | 申请日： | 2022-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN115571877A | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 刘国隆;徐哲;许辉;曹河文 | 申请（专利权）人： | 浙江中科玖源新材料有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205 |
| 代理公司： | 合肥金律专利代理事务所(普通合伙) 34184 | 代理人： | 杨霞 |
| 地址： | 321100 浙江省金华*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种芳纶基石墨膜及其制备方法，所述芳纶基石墨膜的制备方法包括：将芳纶加入具有羟基酸的有机溶剂中，加热溶解完全，得到芳纶溶液；将所述芳纶溶液涂覆成膜后，烘烤固化，得到芳纶薄膜；将所述芳纶薄膜再高温碳化，高温石墨化，即得到所述芳纶基石墨膜。本发明提出的一种芳纶基石墨膜及其制备方法，通过增强芳纶在有机溶剂中的溶解性，制备出了一种结构致密、厚薄均匀性极佳的芳纶薄膜，再将该芳纶薄膜经碳化，石墨化后获得芳纶基石墨膜，所得芳纶基石墨膜具有石墨化程度高、柔性好、热扩散效率高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基石 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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