[发明专利]一种芳纶基石墨膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202211210684.9 | 申请日： | 2022-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN115571877A | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 刘国隆;徐哲;许辉;曹河文 | 申请（专利权）人： | 浙江中科玖源新材料有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205 |
| 代理公司： | 合肥金律专利代理事务所(普通合伙) 34184 | 代理人： | 杨霞 |
| 地址： | 321100 浙江省金华*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基石 及其 制备 方法 | ||
1.一种芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1、将芳纶加入具有羟基酸的有机溶剂中，加热溶解完全，得到芳纶溶液；
S2、将所述芳纶溶液涂覆成膜后，烘烤固化，得到芳纶薄膜；
S3、将所述芳纶薄膜再高温碳化，高温石墨化，即得到所述芳纶基石墨膜。
2.根据权利要求1所述的芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述羟基酸为乳酸、水杨酸、苹果酸、柠檬酸或酒石酸中的至少一种。
3.根据权利要求1或2所述的芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述有机溶剂为N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮或二甲基亚砜中的至少一种。
4.根据权利要求1-3任一项所述的芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述芳纶为聚对苯二甲酰对苯二胺或聚间苯二甲酰间苯二胺纤维中的至少一种；
优选地，所述芳纶、羟基酸和有机溶剂的质量比为1:1-2:10-20。
5.根据权利要求1-4任一项所述的芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述加热溶解温度为60-100℃。
6.根据权利要求1-5任一项所述的芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S2具体包括：将所述芳纶溶液涂布在支撑板上，80-120℃下烘烤固化2-10h。
7.根据权利要求1-6任一项所述的芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述高温碳化温度为800-2000℃，时间为1-6h；
优选地，所述高温碳化的升温速率为1-15℃/min。
8.根据权利要求1-7任一项所述的芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述高温石墨化温度为2000-3000℃，时间为1-6h；
优选地，所述高温石墨化的升温速率为1-15℃/min。
9.根据权利要求1-8任一项所述芳纶基石墨膜的制备方法，其特征在于，步骤S3还包括，将高温石墨化后的芳纶薄膜进行压延处理。
10.一种芳纶基石墨膜，其特征在于，其是权利要求1-9任一项所述制备方法制备得到。
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