[发明专利]一种气体注入机构及气相反应装置在审
申请号: | 202211209019.8 | 申请日: | 2022-09-30 |
公开(公告)号: | CN115679293A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 邢志刚;张志明;刘雷 | 申请(专利权)人: | 楚赟精工科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201210 上海市浦东新区中*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种气体注入机构及气相反应装置,该气体注入机构包括位于中间区域用于输送第一气体的第一气体注入机构,以及位于外围区域环绕第一气体注入机构用于输送第二气体的第二气体注入机构,第二气体注入机构包括若干第二气体输送通道,至少部分第二气体输送通道为旋转气流通道,沿着旋转气流通道喷出的气流的速度包括轴向分量和切向分量,并且切向分量与轴向分量的比例大于0,因此形成旋转气流,并且旋转气流的旋转方向与承载盘在反应过程中的旋转方向一致,所述旋转气流的速度的切向分量的存在使得反应腔室内的流场在边缘区域的流动撞击混合及流线转向过程更平稳,由此抑制或完全消除反应腔室内涡流的产生。 | ||
搜索关键词: | 一种 气体 注入 机构 相反 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的