[发明专利]一种气体注入机构及气相反应装置

权利要求书

1.一种气体注入机构，用于气相反应装置，其特征在于，所述气体注入机构包括：

第一气体注入机构，用于输送第一气体，位于所述气体注入机构的中间区域，所述第一气体注入机构包括若干第一气体输送通道；

第二气体注入机构，用于输送第二气体，位于所述气体注入机构的外围区域，并且环绕所述第一气体注入机构；所述第二气体注入机构包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧配置为出气侧；所述第二气体注入机构包括若干第二气体输送通道，至少部分所述第二气体输送通道为旋转气流通道；

沿着所述旋转气流通道喷出的所述第二气体的气流速度包括轴向分量和切向分量，所述切向分量与所述轴向分量的比例大于0，使得所述第二气体沿所述旋转气流通道喷出形成旋转气流，且所述旋转气流的旋转方向与位于所述气相反应装置中和所述气体注入机构相对设置的承载盘在反应过程中的旋转方向一致。

2.根据权利要求1所述的气体注入机构，其特征在于，在气相反应期间，所述第二气体的平均分子量大于等于所述第一气体的平均分子量。

3.根据权利要求2所述的气体注入机构，其特征在于，所述第一气体为反应源气体和载气，

用于反应生成目标产物，所述第二气体为吹扫气体、载气、反应源气体中的一种或多种，所述第二气体相互之间不发生反应，或者所述第二气体相互之间反应但不生成所述目标产物。

4.根据权利要求1所述的气体注入机构，其特征在于，所述第二气体注入机构覆盖所述承载盘的边缘，且覆盖面积不超过所述承载盘面积的36％，或者所述第二气体注入机构位于所述承载盘的外侧。

5.根据权利要求1所述的气体注入机构，其特征在于，所述第二气体输送通道排布成至少一个同心环形区域，同一同心环形区域中包含的各个所述旋转气流通道喷出的所述旋转气流的速度的所述切向分量与所述轴向分量的比例相同。

6.根据权利要求1所述的气体注入机构，其特征在于，所述第二气体输送通道排布成多个同心环形区域，各同心环形区域喷出的所述旋转气流的速度的所述切向分量与所述轴向分量的比例相同，或者最外侧环形区域喷出的所述旋转气流的速度的所述切向分量与所述轴向分量的比例不小于最内侧环形区域喷出的所述旋转气流的速度的所述切向分量与所述轴向分量的比例，或者自所述同心环形区域的最内侧环形区域至最外侧环形区域，所述旋转气流的速度的所述切向分量与所述轴向分量的比例逐渐增大。

7.根据权利要求1所述的气体注入机构，其特征在于，至少部分所述旋转气流通道喷出的所述旋转气流的速度还包括径向分量，其中所述切向分量与所述轴向分量的比例≥0.1，所述径向分量与所述轴向分量的比例≤0.5。

8.根据权利要求7所述的气体注入机构，其特征在于，所述第二气体输送通道排布成多个同心环形区域，使喷出的所述旋转气流的速度包括所述径向分量的所述旋转气流通道位于最内侧环形区域之外的其余环形区域中。

9.根据权利要求8所述的气体注入机构，其特征在于，除最内侧环形区域之外的其余各同心环形区域喷出的所述旋转气流的速度的所述径向分量与所述轴向分量的比例相同；或者

最外侧环形区域喷出的所述旋转气流的速度的所述径向分量与所述轴向分量的比例不小于紧邻最内侧环形区域的次内侧环形区域喷出的所述旋转气流的速度的所述径向分量与所述轴向分量的比例；或者自所述同心环形区域的次内侧环形区域至最外侧环形区域，所述旋转气流的速度的所述径向分量与所述轴向分量的比例逐渐增大。

10.根据权利要求1所述的气体注入机构，其特征在于，所述气相沉积装置包括至少一个隔离件，所述隔离件将所述第二气体注入机构分隔成相互独立的多个子区域，至少两个所述子区域中输送的所述第二气体被独立调控。