[发明专利]三阱区内的电熔丝和三阱区上的栅极结构在审
申请号: | 202211144130.3 | 申请日: | 2022-09-20 |
公开(公告)号: | CN116133433A | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | E·G·盖布里斯莱希;S·M·尚克;A·F·卢瓦索;R·J·小戈捷;M·J·阿布-卡利尔;A·Y·吉纳维 | 申请(专利权)人: | 格芯(美国)集成电路科技有限公司 |
主分类号: | H10B20/25 | 分类号: | H10B20/25 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 贺月娇;牛南辉 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及半导体结构,更具体地涉及位于三阱上的电熔丝和栅极结构及制造方法。该结构包括:衬底,其包括有界区域;栅极结构,其形成在有界区域内;以及电熔丝,其形成在有界区域内并电连接到栅极结构。 | ||
搜索关键词: | 区内 电熔丝 三阱区上 栅极 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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