[发明专利]一种锕系合金梯度膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202211112488.8 申请日: 2022-09-14
公开(公告)号: CN115449764B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 张培;张厚亮;胡梅娟;王鑫;张雷;蔡定洲;法涛 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院材料研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/14
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王苗苗
地址: 621700 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及锕系合金技术领域,提供了一种锕系合金梯度膜及其制备方法。本发明在基底上进行多靶磁控溅射,得到梯度膜,梯度膜所含金属的元素种类为3种及以上,且其中一种为锕系金属,其余为非锕系金属。本发明首次采用多靶材同时磁控溅射制备锕系合金多元(≥三元)梯度膜,使锕系元素在膜不同区域中的相对含量随着基底与锕系金属或合金靶距离的变化而变化,因此,从距离所述纯锕系金属靶材或锕系合金靶材最远一侧的膜边缘到距离所述纯锕系金属靶材或锕系合金靶材最近一侧的膜边缘,膜中的锕系元素含量逐渐增加,呈梯度分布。本发明可在梯度膜中获得高锕系元素含量的单相合金成分,从而高效筛选出高耐腐蚀性能的合金成分。
搜索关键词: 一种 合金 梯度 及其 制备 方法
【主权项】:
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