[发明专利]一种基于最小二乘法的涂胶轨迹修正方法在审
| 申请号： | 202211110408.5 | 申请日： | 2022-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN115464644A | 公开（公告）日： | 2022-12-13 |
| 发明（设计）人： | 许杨剑;何伟;王仁源;蒋经益;鞠晓喆;梁利华 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B25J9/16 | 分类号： | B25J9/16;B25J11/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 忻明年 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于最小二乘法的涂胶轨迹修正方法，包括：获取理想椭圆轨迹并离散为轮廓点，采集涂胶机器人按照该轮廓点运动的实际涂胶图像并进行预处理；提取预处理后的图像的亚像素边缘点；对亚像素边缘点进行坐标平移和旋转处理；由形心作若干条射线，分别与各平移和旋转处理后的亚像素边缘点和理想椭圆轨迹相交，计算每条射线上两个交点的差值，并将全部射线上的差值平均值作为轨迹偏差，判断轨迹偏差是否超过预设阈值，从而确定是否对平移和旋转处理后进行差值补偿，如是则基于最小二乘法对补偿点进行拟合处理，得到拟合椭圆轨迹并通过不断修正获得最终运行轨迹。该方法有助于快速修正涂胶轨迹，从而提高涂胶精度和工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 最小二乘法 涂胶 轨迹 修正 方法 | ||
【主权项】：
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