[发明专利]电磁屏蔽膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202211096203.6 | 申请日： | 2022-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN116284940A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 金闯;蒋晓明;尹铮杰;周予坤 | 申请（专利权）人： | 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/06 | 分类号： | C08J7/06;C08J7/043;C08L67/02;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/20;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 杨明霞 |
| 地址： | 215400 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜包括层叠设置的基材层、附着力增强层、纳米石墨烯层、金属功能层以及抗氧化层；纳米石墨烯层与金属功能层之间形成异质结构界面。本发明还涉及该电磁屏蔽膜的制备方法。通过利用磁控溅射技术，结合膜层结构设计，制备一种耐候性佳，光学性能优异，透过率可调，导电率低，热导率/电磁屏蔽效果优异的石墨烯银复合透明电磁屏蔽膜。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁 屏蔽 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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