[发明专利]一种获取理论光谱的方法、形貌参数测量方法及装置在审
| 申请号： | 202211060933.0 | 申请日： | 2022-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN115540779A | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 张晓雷;张厚道;梁洪涛;施耀明 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G06F30/20 |
| 代理公司： | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人： | 廉海涛 |
| 地址： | 201700 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种获取理论光谱的方法、形貌参数测量方法及装置。周期性结构包括若干周期单元，该方法包括：沿周期性结构底部到顶部的方向Z，将所述形貌模型划分出多个片层；基于每个所述片层在所述方向Z的介质分布，获取相应片层介电系数沿周期方向的连续函数；然后计算每个所述片层的介电系数的傅里叶系数；最后利用严格耦合波分析算法，计算得到周期性结构的理论光谱。本发明避免了对模型划分的片层侧面轮廓的近似，使得RCWA计算中形貌模型的处理更加贴合样品实际形貌模型，得到了每个片层的介电系数的连续函数，提高了介电系数的傅里叶系数计算精度，提高了理论光谱计算精度和计算效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 获取 理论 光谱 方法 形貌 参数 测量方法 装置 | ||
【主权项】：
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