[发明专利]光掩膜版及其制作方法在审
| 申请号： | 202211052215.9 | 申请日： | 2022-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN115933310A | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 祁耀亮 | 申请（专利权）人： | 睿晶半导体（宁波）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F1/26 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 高德志 |
| 地址： | 315205 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光掩膜版及其形成方法，其中所述形成方法包括：提供透明基板，所述透明基板包括中间区域和环绕所述中间区域的边缘区域；在所述透明基板的中间区域表面上形成若干分立的遮蔽图形；提供环形框架，将所述环形框架粘附在所述透明基板的边缘区域表面，所述环形框架包围所述遮蔽图形；在所述环形框架中填充二氧化硅气凝胶层，所述二氧化硅气凝胶层覆盖所述遮蔽图形以及透明基板的中间区域表面；在所述环形框架的顶部表面形成封闭环形框架内部空间的保护膜。本申请的方法能防止“灰霾”缺陷的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜版 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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