[发明专利]制程微缩的版图结构及其设计方法

摘要

本发明提供一种制程微缩的版图结构，包括：原始版图，原始版图包括Fin图层、mandrel图层；Fin图层包括多个依次分布的Fin图形，其中部分两Fin图形间的距离为第一尺寸，另一部分两Fin图形间的距离为第二尺寸；mandrel图层包括多个mandrel图形，对应两距离为第一值间的Fin图形间设有线宽为第三尺寸的mandrel图形，mandrel图形间的距离为第四尺寸，第三尺寸大于第一尺寸，第四尺寸大于第二尺寸。本发明改变cell版图来避开小Mandrel的制程挑战解决98％制程微缩的需求；cell内不存在伪栅,因此可省去FineCut,可同时解决fin残留问题及fin损伤的风险；在早期Test Vehicle验证阶段解决工艺上的挑战,避免客户加工时遭遇到良率提升的困难。